Batareya plyonkali elektrod purkashda ultratovushli atomizatsiya purkash uskunasini qo'llash

120 kHz yuqori{1}}chastotali ultratovush PEM vodorod yonilg'i xujayralaridagi ultra yupqa, ultra-platina katalizator qatlamlari uchun afzal qilingan jarayondir. Tomchilar 15-25 mkm, qahva halqalarisiz va platinadan foydalanish darajasi ≥95% ni tashkil qiladi, bu esa yuqori ECSA, uzoq umr va past yuklanish bilan membrana elektrodlarini aniq yaratishi mumkin.

I. Membran elektrod tuzilishi va purkash usuli

MEA Uch{0}}qatlam yadrosi

Proton almashinuvi membranasi (Nafion 211/212) → katod Pt/C katalizator qatlami CL → anod IrO₂/RuO₂ katalizator qatlami → GDL gaz diffuziya qatlami

Ikkita asosiy purkash yo'llari

1. CCM to'g'ridan-to'g'ri püskürtme (asosiy):Katalizator eritmasi to'g'ridan-to'g'ri proton almashinuvi membranasiga püskürtülür, so'ngra issiq{0}}GDL qatlamiga bosiladi.

Afzalliklari: Juda past interfeys qarshiligi, optimal uch{0}}fazali interfeys, ultra-patin massali ishlab chiqarish uchun mos.

2. GDE purkash diffuziya qatlami:Uglerod qog'ozi / uglerod matoni püskürtmek, keyin proton almashinuvi membranasini yopishtirish.

Afzalliklari: Membrana shikastlanishga kamroq moyil,-katta maydonlarda ommaviy ishlab chiqarish uchun mos.

II. Pt/C katodli pasta formulasi (120 kHz ajratilgan)

* Nisbat: Pt/C : Nafion biriktiruvchi=2 : 1

* Qattiq tarkib: og'irligi 8–12% (oltin diapazon)

* Viscosity: 15–30 cP, strictly prohibited >Ko'krak tiqilib qolishining oldini olish uchun 35 cP

* Erituvchi: etanol + deionizatsiyalangan suv aralashmasi, ultratovushli 30 daqiqa davomida dispersiyalangan + ko'p bosqichli filtrlash

* Qo'llash mumkin bo'lmagan holatlar: qattiq tarkib<5% easily leads to agglomeration and sagging; Solid content >15% juda osonlik bilan ko'krak qafasining tiqilib qolishiga va g'ovaklikning yomonlashishiga olib keladi

III. 120kHz MEA standart jarayon parametrlari

* Ultratovush chastotasi: 120 kHz

* Ultrasonic Power: 40–60 W (>60W qat'iyan taqiqlangan, chunki u proton almashinuvi membranasiga zarar etkazadi)

* Atlama oqim tezligi: 0,05–0,3 ml/min (ultra-patin platinali ultra yupqa qatlamlar uchun)

* Ko‘krak masofasi: 50–80 mm

* Skanerlash tezligi: 8–20 mm/s, serpantin oʻzaro oʻtish yoʻli

* Tashuvchi gaz (N₂): 0,02–0,04 MPa, membrana shikastlanishining oldini olish uchun past-bosimli shakllanish

* Substratni isitish: 50-70 daraja, tez quritish, platina migratsiyasini va aglomeratsiyasini inhibe qiladi

* Maqsadli platina yuklanishi: 0,05–0,2 mg/sm², CV bir xilligi<3%